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印花織物基底和制造方法與流程

文檔序號:42571306發(fā)布日期:2025-07-25 17:18閱讀:172來源:國知局

本發(fā)明涉及印花織物基底,例如鋪地制品,以及用于制造印花織物基底的方法。本發(fā)明提供印制與諸如變化的紗線絨頭高度、紗線光澤度、紗線顏色等的物理圖案精確對花的顏色圖案的方法和步驟。該方法在織物基底上提供許多獨特的美感,這無法通過其他方式產生。


背景技術:

1、印花織物基底,例如鋪地制品,歷來通過數種印花工藝進行染色和/或印花,以在其表面上產生獨特的圖案和/或設計。在一些情況下,使用浸染機施印織物基底,其中將基底例如方塊地毯浸沒在染缸中,以在基底表面上產生純色色調。然后可以使染色的基底再次進入生產線,以便使用印花油墨在其表面上疊印設計?;蛘?,織物基底可以用使用印花油墨的數字印花機印花,以便在基底的表面上形成圖案和/或設計。在另一種情況下,使用紡前染色紗來制造織物基底,然后可以使用印花油墨在其表面上施印圖案。

2、盡管存在所有這些用于印花織物基底并在其上產生各種圖案和/或設計的方法選擇,但消費端對迄今為止未見的圖案和/或設計的需求持續(xù)增長。因此,制造商和設計師共同面臨著提供能夠以成本有效、環(huán)境友好和可持續(xù)的方式實現這些效果的新技術的挑戰(zhàn)。

3、因此,需要對織物基底例如鋪地制品的印花進行進一步改進,以便提供由于技術限制而以前從未實現的新的有趣的設計。由于制造過程中基底存在的弓緯緯斜(如拉伸位移)、收縮及其他工藝問題,與基底(例如簇絨織物基底)可檢測和可識別的物理特征進行精確對花的技術尚未成功實現。此外,由于由大卷地毯制造方塊地毯的裁切工藝,期望圖案的對準和/或套準精度可能在目視檢查時出現損失或下降。因此,需要數字印花設備的技術革新,以成功解決這些問題,并在織物基底上實現新的圖案和/或設計。

4、本發(fā)明解決了這些問題,并且提供在織物基底的表面上實現精確對花的設計和圖案的解決方案,如本文將描述的。利用若干新的工藝步驟和技術進步解決了先前無法在織物基底上實現精確對花印花的問題。它還提供可用數字印花機實現的精確對花的織物基底,其在基底上包含先前無法實現的圖案和/或設計。


技術實現思路

1、在一個方面,本發(fā)明涉及包含簇絨紗線的織物基底,所述簇絨紗線在織物基底內形成至少兩個區(qū)域a1和a2,所述區(qū)域a1和a2各自包含簇絨設計,所述區(qū)域a1包含第一簇絨設計td1,所述區(qū)域a2包含第二簇絨設計td2,所述td1不同于td2,所述至少兩個區(qū)域a1和a2的特征還在于具有以下之一:

2、(a)在區(qū)域a1的至少一部分上的印花組合物,

3、(b)在區(qū)域a2的至少一部分上的印花組合物,或

4、(c)在區(qū)域a1和區(qū)域a2兩者的至少一部分上的印花組合物,

5、所述織物基底被設計成固定到建筑物表面。

6、在另一方面,本發(fā)明涉及一種用于在織物基底上提供圖案的方法,所述方法包括以下步驟:

7、(a)提供包含簇絨紗線的織物基底,所述簇絨紗線在織物基底內形成至少兩個區(qū)域a1和a2,所述區(qū)域a1和a2各自包含簇絨設計,所述區(qū)域a1包含第一簇絨設計td1,所述區(qū)域a2包含第二簇絨設計td2,所述td1不同于td2;

8、(b)提供數字印花裝置;以及

9、(c)用所述數字印花裝置對所述織物基底的預定位置進行施印,從而通過將印花組合物施加到所述織物基底的表面而在所述織物基底上形成圖案,所述印花組合物僅施加到所述織物基底上的以下預定位置中的一個:

10、(i)在區(qū)域a1的至少一部分上,

11、(ii)在區(qū)域a2的至少一部分上,或

12、(iii)在區(qū)域a1和區(qū)域a2兩者的至少一部分上,

13、所述施印的特征在于與織物基底上的選自(i)至(iii)的預定位置精確對花。

14、在另一方面,本發(fā)明涉及在織物基底上產生設計的方法,其包括以下步驟:

15、(a)選擇織物基底,其中所述織物基底包含具有第一高度的簇絨紗線、具有第二高度的簇絨紗線和不含簇絨紗線的區(qū)域,其中所述第一高度大于所述第二高度;

16、(b)選擇要施加在所述織物基底的表面的預定位置上的印花設計,其中所述印花設計是通過數字印花裝置施加到所述織物基底上,并且其中所述印花設計僅施加在所述織物基底的以下預定位置中的一個上:

17、(i)在具有第一高度的簇絨紗線的至少一部分上,

18、(ii)在具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上,

19、(iii)在不含簇絨紗線的區(qū)域的至少一部分上,或

20、(iv)在具有第一高度的簇絨紗線和具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上;以及

21、(c)引導所述數字印花裝置將所述預選的印花設計施加到所述織物基底上。

22、在另一方面,本發(fā)明涉及在織物基底上產生設計的方法,其包括以下步驟:

23、(a)選擇織物基底,其中所述織物基底包含具有第一高度的簇絨紗線、具有第二高度的簇絨紗線和不含簇絨紗線的區(qū)域,其中所述第一高度大于所述第二高度;

24、(b)選擇要施加在所述織物基底的表面的預定位置上的第一印花設計,其中所述第一印花設計通過數字印花裝置施加到所述織物基底上,并且其中所述第一印花設計僅施加在所述織物基底的以下預定位置中的一個:

25、(i)在具有第一高度的簇絨紗線的至少一部分上,

26、(ii)在具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上,

27、(iii)在不含簇絨紗線的區(qū)域的至少一部分上,或

28、(iv)在具有第一高度的簇絨紗線和具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上;

29、(c)引導所述數字印花裝置將所述預選的第一印花設計施加到所述織物基底上;

30、(d)選擇要施加在所述織物基底的表面上的第二印花設計,其中所述第二印花設計通過數字印花裝置施加到所述織物基底上,并且其中所述第二印花設計僅施加在所述織物基底的以下預定位置中的一個:

31、(i)在具有第一高度的簇絨紗線的至少一部分上,

32、(ii)在具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上,

33、(iii)在不含簇絨紗線的區(qū)域的至少一部分上,或

34、(iv)在具有第一高度的簇絨紗線和具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上;以及

35、(e)引導所述數字印花裝置將所述預選的第二印花設計施加到所述織物基底上。

36、在另一個方面,本發(fā)明涉及在織物基底上產生設計的方法,其包括以下步驟:

37、(a)選擇織物基底,其中所述織物基底包含具有第一高度的簇絨紗線、具有第二高度的簇絨紗線和不含簇絨紗線的區(qū)域,其中所述第一高度大于所述第二高度;

38、(b)選擇要施加在所述織物基底的表面的預定位置上的第一印花設計,其中所述第一印花設計通過數字印花裝置施加到所述織物基底上,并且其中所述第一印花設計僅施加在所述織物基底的以下預定位置中的一個:

39、(i)在具有第一高度的簇絨紗線的至少一部分上,

40、(ii)在具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上,

41、(iii)在不含簇絨紗線的區(qū)域的至少一部分上,或

42、(iv)在具有第一高度的簇絨紗線和具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上;

43、(c)引導所述數字印花裝置將所述預選的第一印花設計施加到所述織物基底上;

44、(d)選擇要施加在所述織物基底的表面上的第二印花設計,其中所述第二印花設計通過數字印花裝置施加到所述織物基底上,并且其中所述第二印花設計僅施加在所述織物基底的以下預定位置中的一個:

45、(i)在具有第一高度的簇絨紗線的至少一部分上,

46、(ii)在具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上,

47、(iii)在不含簇絨紗線的區(qū)域的至少一部分上,或

48、(iv)在具有第一高度的簇絨紗線和具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上;

49、(e)引導所述數字印花裝置將所述預選的第二印花設計施加到所述織物基底上,

50、(f)選擇要施加在所述織物基底的表面上的第三印花設計,其中所述第三印花設計通過數字印花裝置施加到所述織物基底上,并且其中所述第三印花設計僅施加在所述織物基底的以下預定位置中的一個:

51、(i)在具有第一高度的簇絨紗線的至少一部分上,

52、(ii)在具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上,

53、(iii)在不含簇絨紗線的區(qū)域的至少一部分上,或

54、(iv)在具有第一高度的簇絨紗線和具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上;以及

55、(g)引導所述數字印花裝置將所述預選的第三印花設計施加到所述織物基底上。

56、在又一方面,本發(fā)明涉及包括圖案的織物基底,所述圖案的特征在于具有至少一個包含物理標識的區(qū)域和至少一個不含物理標識的區(qū)域,所述物理標識選自印花組合物、簇絨密度、紗線構造、紗線組成及其組合,所述圖案的特征還在于僅具有以下之一:

57、(a)在包含物理標識的區(qū)域的至少一部分上的印花油墨,

58、(b)在不含物理標識的區(qū)域的至少一部分上的印花油墨,或

59、(c)在包含物理標識的區(qū)域和不含物理標識的區(qū)域兩者的至少一部分上的印花油墨,

60、所述織物基底被設計用于水平面上。

61、在又一方面,本發(fā)明涉及包括圖案的織物基底,所述圖案的特征在于具有至少一個包含第一物理標識的區(qū)域和至少一個包含第二物理標識的區(qū)域,所述物理標識選自印花組合物、簇絨密度、紗線構造、紗線組成及其組合,所述圖案的特征還在于僅具有以下之一:

62、(a)在包含第一物理標識的區(qū)域的至少一部分上的印花油墨a、b或c,

63、(b)在包含第二物理標識的區(qū)域的至少一部分上的印花油墨a、b或c,或

64、(c)在包含第一物理標識和第二物理標識兩者的區(qū)域的至少一部分上的印花油墨a、b或c,

65、所述織物基底被設計用于水平面上。

66、在又一方面,本發(fā)明涉及包括圖案的織物基底,所述圖案的特征在于具有至少一個包含第一高度的簇絨紗線和第二高度的簇絨紗線的形貌區(qū)域,其中所述第一高度大于所述第二高度,所述圖案的特征還在于僅具有以下之一:

67、(a)在具有第一高度的簇絨紗線的至少一部分上的印花油墨a、b或c,

68、(b)在具有第二高度的簇絨紗線的至少一部分上的印花油墨a、b或c,或

69、(c)在具有第一高度的簇絨紗線和具有第二高度的簇絨紗線兩者的至少一部分上的印花油墨a、b或c,

70、所述織物基底被設計用于水平面上。

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